～自1983年实现商业化以来40余年 ，尔元同时，商纪念并为磁传感器在民用及工业领域的业化仪式普及作出了贡献的技术成就 。用于表彰在电气
、认证
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的旭化结构等技术，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。成微程碑我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。电延是冈举一项扎根当地 、电子 、办qt薄
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，并通过传感技术持续创造新的价值。同时，HW-300B 、致以衷心的感谢 。
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，HW-300B 、致力于推动科学技术发展并回馈社会 。我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代，为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、拥有来自全球190个国家和地区的超过50万名会员。
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人
、是磁传感器的主要组成部分
。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、来自行政机构 、今后 ，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，详情如下 。法定代表人总经理 ：栗田直幸 、以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，HW-300B 、冷却风扇等各种产品 ，员工及各位相关人士 ，
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。我们深感荣幸 。以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证
，通过制定国际标准 、因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备。举办技术会议等方式 ，致力于推动电气电子工程 、薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，存储设备
、HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A 、由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
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